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     1/主管机关及法律法规

国会图书馆(Library of Congress)版权办公室(United States Copyright Office),负责集成电路布图设计的注册和管理。

 官方网站:www.copyright.gov

 付费检索:版权办公室1978年以来的注册文件和备案文件,可供公众检索和复制

 法律法规:《美国法典》(United States Code)第17编第9章:《半导体芯片产品的保护》(Semiconductor Chip Protection Act)

     2/简介

 保护客体:

集成电路布图设计,美国称为掩膜作品(mask work)。布图设计权不保护想法、系统、操作方式、概念、原则、程序、方法、发现等。

 保护条件:

1、独创性,须为设计者的独立创造而非抄袭得来,且非半导体芯片领域常规、普通、熟悉的设计,或在原有设计基础上进行组合但整体上缺乏原创性的设计;

2、以任何方式固定在或以编码形式体现在半导体芯片产品上,且需经过相当长时间、充分永久或稳定地体现在产品中。

3、在美国版权办公室注册。未注册的,首次商业利用后2年内也可以获得保护,但首次商业利用2年内必须进行注册,否则将失去保护。另外,申请注册也是提起民事侵权诉讼的前提条件。

根据美国相关规定,我国公民或居民的掩膜作品也能在美国获得保护。

 权利内容:

1、复制,以任何形式复制/实施;

2、进口或发行含有受保护的掩膜作品的半导体芯片产品;

3、诱导或故意促使他人实施上述行为。

 权利限制:

1、反向工程,但仅能为了教学、分析或研究之目的;

2、权利用尽,全球范围内包含有受保护的掩膜作品的半导体芯片产品合法购买人有使用和进一步销售、处分等权利;

3、善意侵权,不知情的善意购买人可以在知情之前进一步销售、进口芯片产品,无需承担任何法律责任。

 保护期限:

10 年,从注册之日或全球范围内首次商业利用之日中较早之日所在年份起次年开始计算到第 10 年年底。

 权利转让、许可:

转让或许可协议必须为书面形式,可以在版权办公室备案。

     3/注册程序

1.申请

申请文件包括申请表、体现有掩膜作品的芯片产品的完整图样、半导体芯片产品样本(已经商业利用的)。

2.形式审查

版权办公室仅审查形式要件是否满足,比如申请表格是否填写完整、适当等,不会进行实质审查。

3.注册

注册成功后申请人将获得注册证书,该注册证书可作为相关记载事项真实性的初步证据。

4.拒绝注册 → 上诉至联邦地区法院

申请人对版权办公室作出的拒绝注册决定不服的,可在 60 天内向有管辖权的联邦地区法院提起诉讼。

主办:中华人民共和国商务部
承办:中国国际电子商务中心
ICP备案编号:京ICP备06025182号