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主管机关

德国专利商标局(DPMA),负责注册和管理集成电路布图设计,在慕尼黑、耶拿和柏林设有办公室。

 官方网站:www.dpma.de

 咨询电话:+49 (0) 89-2195-3402

 Email:info@dpma.de

 DPMAregister:检索2012年2月1日之后的德国申请注册的布图设计和已注册布图设计

相关法律

1/ 微电子半导体保护法 Halbleiterschutzgesetz(HalblSchG) (德语原文)
2/ 微电子半导体保护法规 Halbleiterschutzverordnung(HalblSchV) (德语原文)

保护的客体及受保护的条件

集成电路布图设计,德国称为拓扑图(topography),即微电子半导体产品的三维结构,包括布图设计生产过程中独立可用的部分以及载体,但不包括其中的设计思想、概念、系统、方法、信息、技术、程序等。

布图设计受到保护应具备以下条件:

 独创性。须独立创作,即非仅仅抄袭其他布图设计且非常规设计。如果是在常规设计基础上组合而来,则组合整体需具有独创性。

 须固定或编码,但不要求固定在半导体芯片上。

 在 DPMA 注册。未注册的,在首次公开商业利用后 2 年内也可以获得保护,但在此 2 年内必须通知 DPMA,否则将失去保护。

根据德国相关规定,中国公民或法人的集成电路布图设计在德国能够申请获得保护。

保护内容及限制

集成电路布图设计权利人有权阻止他人未经许可复制、进口或销售受保护的布图设计或含有该布图设计的半导体产品。但在下列情况下,可以不经权利人许可:

 私人非商业目的使用;

 为了分析、评估或培训之目的复制;

 在分析或评估之后商业利用一个新的具有独创性的布图设计。

保护形式

 海关有权禁止侵犯集成电路布图设计权利的产品进出口

 民事侵权诉讼

 刑事自诉、公诉

具体参见德国知识产权司法救济和行政救济

申请流程

 申请文件

申请书、布图设计说明材料、布图设计的图样、包含该布图设计的集成电路样品(如果已经商业利用)等,申请人可以指定布图设计图样中的部分信息为保密信息,从而不对社会公众公开。

申请文件不完整的,DPMA 可以要求申请人在 2 个月内进行补正,否则申请将被视为撤销。

一次申请只能针对一件设计。

 形式审查

布图设计专有权申请注册过程中,DPMA 仅对申请进行形式审查,只要符合形式条件就可获得注册。但在注册之后,任何人可以申请 DPMA 撤销不符合独创性的布图设计。

保护期限

 自首次公开商业利用之日起 10 年,但首次公开商业利用之日起 2 年内需通知 DPMA,否则将失去保护效力;或

 自在 DPMA 注册之日起 10 年,但在 DPMA 注册之前不得用于商业目的或者只能秘密使用。

主办:中华人民共和国商务部
承办:中国国际电子商务中心
ICP备案编号:京ICP备06025182号